特征参数：
● 150-350mW@355nm
● 80MHz重复频率 / 12ps脉宽
● 高光束质量M²<1.3
● 紧凑、密封、坚固的工业级操作平台确保了良好的光束性能和长期的功率稳定性。
应用：
● 半导体晶圆检查
● 细胞筛选
● 微加工
● 微型立体光刻
光束特性 | ||
项目 | GENIUS-150 | GENIUS-350 |
波长(nm) | 355nm | |
功率 | 150mW | 350mW |
重复频率1(MHz) | 80MHz±1MHz | |
脉宽2(ps) | ＜12ps | |
光束质量 | TEM00(M2＜1.3) | |
平均功率稳定性3(RMS) | ＜2% | |
偏振度 | ＞100:1 水平 | |
光斑圆度(%) | ＞85% | |
光束指向性4(μrad/℃) | ＜20μrad/℃ | |
光斑尺寸5(mm) | ~1mm | |
一般特性 | ||
电源输入 | 220 VAC ±5% 50-60Hz | |
能量损耗 | ＜1kW | |
冷却方式 | 闭路循环水冷 | |
工作条件 | 温度 15-35℃ 湿度 ＜65% | |
加热时间(min) | ＜40min | |
